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金属掩膜版不锈钢蜂窝栅极电极掩膜版激光精密切割来图定制

华诺激光专业定做掩膜版mask金属掩模板不锈钢掩膜版,主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用,掩模板可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等真空镀膜设备中,用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池,光电探测器,场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。

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产品特性:加工精度高加工类型:定制加工工件材质:不锈钢、铝、铜、钼、镍、玻璃、pet等
加工产品范围:蒸镀掩膜版、科研实验掩膜版、金属MASK、金属遮罩、叉指电极掩膜版打样周期:1-3天加工周期:4-7天
年最大加工能力:999999件年剩余加工能力:888888件切割材质:不锈钢、铝、铜、钼、镍、玻璃、pet等
加工精度:±20μm加工厚度:0.1-2.5mm加工幅面:350*300mm
加工优势:边缘光滑无毛刺加工地址:北京、天津设备类型:皮秒、纳秒
型号:CN230217991

金属掩膜版不锈钢蜂窝栅极电极掩膜版激光精密切割来图定制详细介绍









掩膜版根据基板材质的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。石英掩膜版使用 石英玻璃作为基板材料,光学透过***,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整耐磨,使用寿命长,主要用于高 精度掩膜版,苏打掩膜版则使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版;而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料,主要用于液晶显示器(LCD)制造过程中的定向材料移印;菲林使用 PET 作为基板材料,主要用于电路板掩膜。

掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形,用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形,将不需要的金属层和胶层洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案,通过透光与非透光方式进行图像(电路图形)复制,从而实现批量生产。


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