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| 产品特性：精度高 | 加工类型：激光切割 | 工件材质：不锈钢 |
| 加工产品范围：溅射掩膜版、叉指电极掩膜版 | 打样周期：1-3天 | 加工周期：4-7天 |
| 年最大加工能力：999999件 | 年剩余加工能力：888888件 | 产品材质：铝、铜、钼、镍、玻璃、pet等 |
| 加工精度：±10μm | 加工厚度：0.05-2.5mm | 适用范围：镀膜、光刻、科研等 |
| 加工地址：北京、天津 | 服务范围：全国 | 加工优势：边缘光滑无毛刺 |
| 型号：CN2304242199 |
华诺激光专业定做掩膜版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版 ，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工厂批量生产，掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等真空镀膜设备中，用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品，具体价格需要发图纸确认后，才能正式报价。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
不锈钢掩模板是以不锈钢材料为基板生产的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金属硬度高可以反复使用，适用于蒸镀线路、电极、芯片层等。受高校研发部门、科研所喜爱。
芯片掩模板用于芯片线路蒸镀使用，优质的材料再结合本公司多年生产经验，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模图像的转移，适合芯片生产厂家和高校实验室。
掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案，通过透光与非透光方式进行图像（电路图形）复制，从而实现批量生产。
